PT Samudra Metalindo Sejahtera – Di dunia semikonduktor, performa dan kualitas permukaan wafer (lembaran tipis yang terbuat dari lapisan semikonduktor) sangat tergantung pada kondisi pad pada proses Chemical Mechanical Polishing (CMP). Untuk itu, Ehwa Diamond memperkenalkan inovasi terdepan: CVD CMP Pad Conditioner.
CMP merupakan teknik hybrid antara pengikisan mekanik dan kimia untuk meratakan permukaan wafer semikonduktor hingga mencapai tingkat presisi sangat tinggi.
Selama proses CMP, pad pengasah cenderung mengalami “glaze”, lapisan halus yang terbentuk akibat kontak terus menerus dengan permukaan wafer dan slurry.
Untuk menjaga kinerja stabil serta kualitas permukaan wafer, perlu proses conditioning atau penghalusan ulang pad menggunakan disk pengkondisi yang umumnya berbahan berlian.
Teknologi Unggul Berbasis CVD Diamond
Berbeda dengan disk klasik yang menggunakan teknologi metal bonding seperti electroplating atau brazing, pad conditioner ini mengusung lapisan berlian menggunakan metode Chemical Vapor Deposition (CVD).
Pendekatan ini memastikan stabilitas kimia yang superior dan permukaan disk yang sangat rata. Teknologi ini juga memastikan kontak yang konsisten antara berlian dan pad untuk performa optimal.
Penggunaan teknologi CVD memungkinkan pengendalian yang presisi terhadap material removal rate (MRR) dan pad conditioning rate (PCR). Pengguna dapat menghemat biaya operasional dan menjaga konsistensi performa selama pemakaian.
Teknologi ini sangat cocok dalam berbagai jenis CMP, mulai dari oksida (Oxide CMP), tungsten (W CMP), hingga tembaga (Cu CMP). Ketahanan dan performanya yang konsisten membuatnya ideal dalam setting manufaktur semikonduktor modern.
Kenapa Ini Penting bagi Industri Semikonduktor?
Kemampuan pad conditioner dalam menjaga permukaan wafer tetap rata dan bebas defek adalah kunci dalam meningkatkan yield (jumlah chip yang layak jual), menurunkan defectivity, serta menopang teknologi fabrikasi skala lanjut.
Dalam era di mana dimensi transistor semakin mini, kualitas conditioning pad menjadi sangat krusial. Di sinilah CVD CMP Pad Conditioner membuktikan nilai tambahnya sebagai solusi mutakhir.
CVD CMP Pad Conditioner adalah solusi mutakhir yang menggabungkan ketahanan, akurasi, dan efisiensi, memastikan proses CMP berjalan lancar dengan hasil yang konsisten. Produk ini cocok untuk industri semikonduktor yang mengutamakan kualitas tinggi dan stabilitas proses.
Dapatkan produk cutting tool, measuring, power tool, air tool, abrasive di PT Samudra Metalindo Sejahtera. Kontak kami, konsultasikan kebutuhan Anda dengan kami terlebih dahulu.
Follow Instagram, Facebook, X, LinkedIn dan Threads resmi perusahaan. Serta jangan ketinggalan produk menarik di Tokopedia PT Samudra Metalindo Sejahtera.
PT Samudra Metalindo Sejahtera merupakan authorized distributor Ehwa. Temukan produk lainnya yang Anda butuhkan bersama kami. (sms)
